RecodeX 重构消息，SK海力士正在推进EUV（极紫外）光刻工艺，并引入相移掩模技术以支持下一代DRAM制造。该技术有助于提升芯片图案精度，改善良率与性能。相关进展显示其在先进存储制程上的持续投入。