RecodeX 重构消息,在无锡举行的CSEAC 2026展会上,中国半导体设备制造商展示了在刻蚀、沉积和光刻领域的突破性进展。然而,离子注入机和检测测量设备仍处于落后状态,国产化率不足15%。
中国半导体设备国产化攻坚:刻蚀沉积光刻突破,离子注入检测仍落后
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