RecodeX 重构消息，英伟达首席执行官黄仁勋就中国半导体设备能力发表看法，认为中国有望在2030年前实现先进光刻机自主突破，这一判断比蔡司方面更为乐观。光刻机是先进制程芯片制造的核心设备，目前主要由荷兰ASML等厂商主导。