RecodeX 重构消息，中国研究人员在未获得ASML最先进极紫外光刻（EUV）设备的情况下，利用较旧的光刻技术，在将半导体工艺节点推进至3纳米以下方面取得初步进展。由于美国制裁，ASML的EUV设备对华出口仍被禁止。这一进展是中国在美国出口管制下探索先进芯片制造替代路径的最新动向。