
2026/08/27
研微半导体获近15亿元B轮融资:高端薄膜沉积设备国产替代加速,但竞争激烈考验持续投入
在先进制程芯片的制造流程里,薄膜沉积设备的地位正在被重新审视。当光刻机占据公众注意力时,决定晶体管栅极、电容介质和金属互连质量的,往往是前道工序中一层层纳米级薄膜的均匀性、台阶覆盖率和缺陷密度。逻辑芯片进入FinFET与GAA架构后,对原子级厚度控制的要求,让ALD从一种可选技术变成关键路径上的必选项。但这条路径长期由…
基于公开融资报道的机构投资组合与出手记录。
常见单笔融资规模:2.142857143 亿美元。(AI 基于报道归纳,仅供参考。)
硬件/芯片1
前沿科技1
B轮1
A1轮1
本页公开报道按年份排列;融资金额为项目披露额,不代表该机构实际出资。

在先进制程芯片的制造流程里,薄膜沉积设备的地位正在被重新审视。当光刻机占据公众注意力时,决定晶体管栅极、电容介质和金属互连质量的,往往是前道工序中一层层纳米级薄膜的均匀性、台阶覆盖率和缺陷密度。逻辑芯片进入FinFET与GAA架构后,对原子级厚度控制的要求,让ALD从一种可选技术变成关键路径上的必选项。但这条路径长期由…

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出手次数按当前仍公开的原创报道计算;同一融资可能涉及多个机构,不能把机构出手次数之和当作独立融资事件数。
赛道、轮次及近 12 月统计来自原站有时间标记的机构快照,部分由 AI 基于报道自动归纳;仅供参考,并非投资承诺。