普林斯顿大学研究发现，在二维材料表面添加微量氧或氟涂层能提升等离子体刻蚀可控性，助力下一代芯片制造。

RecodeX 重构消息，普林斯顿大学研究发现，在二维材料表面添加微量氧或氟涂层能提升等离子体刻蚀可控性，助力下一代芯片制造。