RecodeX 重构消息,瑞银集团分析师预测,中国半导体制造能力在未来十年内难以快速提升,无法开发出可替代ASML Holding NV尖端极紫外(EUV)光刻技术的可行方案。
瑞银:中国十年内难造出ASML级EUV光刻机
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原始信息来源Bloombergbloomberg.com
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