RecodeX 重构消息，英伟达CEO黄仁勋判断，中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统，技术成熟后国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。这一判断比阿斯麦EUV光学系统核心供应商蔡司更为乐观，蔡司半导体负责人称中国做出国产EUV光刻机或需约15年。需注意的是，相关提问未限定为EUV，黄仁勋的回答也未明确提及EUV。