RecodeX 重构消息,英伟达CEO黄仁勋判断,中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统,技术成熟后国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。这一判断比阿斯麦EUV光学系统核心供应商蔡司更为乐观,蔡司半导体负责人称中国做出国产EUV光刻机或需约15年。需注意的是,相关提问未限定为EUV,黄仁勋的回答也未明确提及EUV。