科技2026/09/18 10:27中科院GAA晶体管获突破 称DUV光刻机可造3nm芯片RecodeX 重构消息,中科院宣布在GAA(全环绕栅极)晶体管技术上取得重大突破,称该技术路线可绕开EUV光刻机,使用DUV光刻机即可制造3nm芯片。 AI 辅助判断积极AI 看多仅供信息参考,不构成投资建议原始信息来源凤凰科技tech.ifeng.com查看原文 ↗生成图片卡片复制快讯分享 / 更多⌄复制链接系统分享分享到 X分享到 Telegram分享到 Facebook内容纠错Aa 字号:标准本机收藏← 上一条1-8月邮政行业业务收入12304.5亿元 同比增长6.0%下一条 →华为发布全新计算架构 可让百万级处理器组成一台计算机