RecodeX 重构消息,日本JX金属宣布计划提升溅射靶材产量,以满足硬盘制造领域持续增长的需求。溅射靶材是硬盘磁记录层等关键薄膜沉积工艺的核心材料,此次扩产旨在应对数据中心与存储市场需求上升带来的供应压力。
JX金属拟扩大溅射靶材产能以应对硬盘制造需求增长
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