RecodeX 重构消息，清溢光电公告称，公司55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户签署保密协议并确认产品规格书，已收到客户采购订单，产品现已交货，进入客户上线认证阶段。该产品主要用于半导体芯片制造关键光刻层，覆盖逻辑、存储等高精密图形场景。公司表示，若该产品顺利完成认证并实现规模化批量供货，将完善高端半导体掩膜产品矩阵，提升半导体掩膜业务盈利能力；目前认证周期、认证结果及批量供货时间均存在不确定性。