RecodeX 重构消息，科技与治国研究中心（Center for Technology & Statecraft）报告显示，截至2026年初，中国晶圆厂已累计获得约343台DUV浸没式（DUVi）光刻设备，其中约270台来自ASML。报告指出，DUV设备虽不及EUV先进，但经工艺适配后可用于制造7纳米逻辑芯片，以及面向AI处理器的高级存储芯片HBM。