RecodeX 重构消息,华为常务董事余承东表示,极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键环节,目前国内正在研发相关技术。EUV光刻机是7纳米及以下先进制程芯片量产的核心装备,长期由荷兰ASML独家供应。
余承东称EUV光刻设备是先进芯片制造关键,国内正研发
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