RecodeX 重构消息，ASML公布新一代Hyper NA EUV光刻机蓝图，该设备被视为现有高数值孔径（High NA）EUV光刻机的接班人，可实现5nm线宽单次曝光。ASML将Hyper NA定位为下一代极紫外光刻技术方向，用于延续摩尔定律、降低先进制程的多次曝光成本。