科技2026/10/26 08:13英特尔高管称采用High NA EUV光刻机是正确选择,追赶台积电取决于规模ASML 光刻机霸权追踪全球光刻机巨头ASML的订单、财报、裁员及技术动向,透视芯片制造与AI基础设施的底层博弈RecodeX 重构消息,英特尔高管表示,公司采用High NA EUV光刻机是正确选择,并指出追赶台积电的关键在于规模问题。该表态涉及英特尔在先进制程上的设备路线与产能扩张方向。 AI 辅助判断中性仅供信息参考,不构成投资建议原始信息来源新浪科技finance.sina.com.cn查看原文 ↗生成图片卡片复制快讯分享 / 更多⌄复制链接系统分享分享到 X分享到 Telegram分享到 Facebook内容纠错Aa 字号:标准本机收藏← 上一条某公司重大资产重组切入光通信产业链并今日复牌下一条 →新石器完成4亿美元E轮融资:无人配送从卖车转向运力服务,能否跑通盈利模型?