RecodeX 重构消息,美国康奈尔大学领导的研究团队证明,在氧化铝镓薄膜中掺入硅后,材料在比以往任何半导体带隙都更宽的情况下,仍能保持稳定的导电调控能力。更宽的带隙可让电子器件体积更小、效率更高,并承受更高电压,但带隙越宽,导电性越难控制。相关论文已发表于新一期《自然》杂志。
康奈尔团队掺硅氧化铝镓薄膜刷新半导体带隙纪录
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