RecodeX 重构消息，中微公司在分析师会议上表示，其减压外延设备已付运至先进制程客户端，进入量产验证阶段；常压外延设备也正进入晶圆验证阶段。公司称EPI设备是先进逻辑工艺中的关键设备。

薄膜沉积方面，中微PECVD设备采用16个反应台配置和最新等离子体源，输出量较国内外标配设备提升80%至100%，PECVD氮氧叠层、碳掩膜等新品在客户端顺利验证中。CuBS PVD设备配置14个反应腔、采用对称双路径设计，输出率提升50%至100%，已获多家头部客户认可，并交付至国内先进逻辑器件研发线验证。