RecodeX 重构消息，首尔高等法院刑事3部10月22日就涉嫌违反《产业技术保护法》被起诉的三星电子前员工全某作出二审判决，判处其有期徒刑5年，较一审刑期减少2年。全某被指参与泄露三星电子D램工艺技术。

法院认定，三星电子因此遭受难以挽回的损失，国家产业竞争力也受到威胁；但考虑到全某未直接参与开发工作、曾在相关案件庭审中作证，且在二审中认罪反省，故予以减刑。全某1987年至2015年在三星电子任职，2016年8月跳槽至中国一家存储芯片企业。