蔡司高管：中国芯片制造工具落后约15年
RecodeX 重构消息，德国蔡司集团一位高管表示，中国在开发尖端芯片制造工具方面落后约15年。蔡司是全球半导体行业的关键供应商，其光刻系统部件对先进制程至关重要。该言论凸显中国在高端半导体设备领域仍面临技术瓶颈。
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ASML 光刻机霸权
追踪全球光刻机巨头ASML的订单、财报、裁员及技术动向，透视芯片制造与AI基础设施的底层博弈
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按最新发布排序瑞银：中国十年内难造出ASML级EUV光刻机
RecodeX 重构消息，瑞银集团分析师预测，中国半导体制造能力在未来十年内难以快速提升，无法开发出可替代ASML Holding NV尖端极紫外（EUV）光刻技术的可行方案。
美银推荐半导体设备股 ASML领衔
RecodeX 重构消息，美国银行发布研报，将ASML列为半导体设备板块首选股，认为其在光刻机领域的技术优势和市场地位稳固。该行看好半导体设备行业前景，预计先进制程投资将持续增长。
美政府拟全面限制ASML对华出口DUV光刻机
RecodeX 重构消息，据荷兰媒体NU.nl报道，美国政府正考虑进一步向荷兰政府施压，试图迫使半导体设备制造商阿斯麦（ASML）停止向中国出口几乎所有芯片制造设备。报道称，美国正积极展开游说，旨在全面切断这些关键机器对中国大陆客户的供应。
三星电子推迟引入High-NA EUV设备 拟2030年用于1nm制程
RecodeX 重构消息，据悉，三星电子旗下代工业务尚未承诺引入阿斯麦（ASML）新一代高数值孔径极紫外光刻设备（High-NA EUV），但这一策略预计将在2030年研发1nm制程节点时改变。届时，三星将成为顶尖芯片厂商中较晚采用该设备的厂商之一。
ASML：支撑英伟达、美光与AMD的芯片巨头
RecodeX 重构消息，人工智能浪潮推动英伟达、AMD、美光等芯片制造商高速成长，而荷兰ASML凭借其在光刻机领域的垄断地位，成为先进制程芯片生产的关键设备供应商。该公司极紫外光刻（EUV）技术是AI算力扩张不可或缺的基础设施。
台积电上调2026年资本开支指引15%至600-640亿美元，营收增速预期超40%，同时阿斯麦拟对光刻机涨价10%遭台积电抵制，芯片股市值一周蒸发超1万亿美元。
台积电上调2026年资本开支指引15%至600-640亿美元，营收增速预期超40%，同时阿斯麦拟对光刻机涨价10%遭台积电抵制，芯片股市值一周蒸发超1万亿美元。
中国首台国产浸没式DUV光刻机投产，计划2026年向中芯国际、华虹、长鑫存储交付五台，阿斯麦股价因此大跌8%。
中国首台国产浸没式DUV光刻机投产，计划2026年向中芯国际、华虹、长鑫存储交付五台，阿斯麦股价因此大跌8%。
中国上海国有企业在浸没式DUV光刻机制造上取得突破，可用于生产主流芯片，有望降低对ASML和Nvidia的依赖。
中国上海国有企业在浸没式DUV光刻机制造上取得突破，可用于生产主流芯片，有望降低对ASML和Nvidia的依赖。
分析师认为中国DUV光刻技术进展不足为奇，ASML等半导体设备股近期抛售过度，市场对地缘政治担忧反应过激。
分析师认为中国DUV光刻技术进展不足为奇，ASML等半导体设备股近期抛售过度，市场对地缘政治担忧反应过激。
上海国资企业已开始量产自主研发的DUV光刻机制造设备，计划2026年生产约5台，2027年扩大至20台，目标交付中芯国际、华虹半导体和长鑫存储等中国主要芯片制造商，推动半导体国产化替代。
上海国资企业已开始量产自主研发的DUV光刻机制造设备，计划2026年生产约5台，2027年扩大至20台，目标交付中芯国际、华虹半导体和长鑫存储等中国主要芯片制造商，推动半导体国产化替代。